X射线荧光分析(XRF)

X射线荧光分析(XRF) 又称X射线次级发射光谱分析，是利用原级X射线光子激发待测物质中的原子，使之产生次级的特征X射线（X光荧光）而进行物质成分分析和化学态的研究方法。通过测定特征X射线的能量，便可以确定相应元素的存在，而特征X射线的强弱则代表该元素的含量。XRF可以检测从Na-U的所有元素，其检测限度可达到10ppm级别。通过使用适当的参考标准, XRF可以准确的量化固态或液态样品的元素组成。

 

XRF技术性能

检测信号

X-射线

检测元素范围
Na-U

检测限
10 ppm

成像／绘图
否

横向分辨率／探头尺寸
100 µm

 

XRF分析的应用

·   可测量微米级金属薄膜的厚度

·   高精度和准确性的全晶圆成份像（达300mm的晶圆）

·   未知固相、液相或粉体中的元素分析

·   合金的鉴定

 

XRF分析的相关领域

• 航空航天
• 汽车
• 数据存储
• 国防
• 电子
• 工业产品
• 照明
• 聚合物
• 半导体

 

XRF分析的优势

• 非破坏性
• 全晶圆分析（200 和300 nm）及晶圆片和小试样
• 全晶圆成份像
• 无试样制备要求
• 分析区域可小至30 µm
• 能分析液体和固体
• 探测深度可达10 µm

 

XRF分析的局限性

• 不能检测比Na轻的元素
• 对高精度定量分析，要求参考标准类似于测试试样
• 无剖面成像能力