X射线光电子能谱仪(XPS)

您现在的位置:首页 >> X射线光电子能谱仪(XPS)

X射线光电子能谱/电子光谱化学分析仪(XPS/ESCA)

 

X射线光电子能谱(XPS),也称为电子光谱化学分析仪(ESCA) ,是一种无损的表面分析技术。其原理是用X射线辐射样品,使样品表面原子或分子的内层电子(或价电子)被激发出来成为光电子。检测光电子动能,然后以光电子的动能为横坐标,相对强度为纵坐标做出光电子能谱图。从而获得试样原子组成和化学键合信息。 XPS的测试深度约 50-70Å,检测限约为0.01%。此外,XPS可用于材料的深度分析。

 

XPS的主要应用

  • 识别污点或变色
  • 清洁度的表征
  • 分析粉末和碎片的组成份
  • 识别和量化表面变化前后聚合物的功能参数
  • 测量硬盘上的润滑剂厚度
  • 深度分析
  • 测量样品的氧化层厚度

 

XPS技术性能

信号检测
光电子

元素检测
Li-U
及其化合价信息

检测限
0.01 – 1%
(原子百分比)

深度分辨率
20 - 200 Å
(深度分析模式)
10 - 100 Å (
表面分析)

成像/绘图

横向分辨率
10 µm

 

XPS分析的理想用途

  • 有机材料、无机材料、污点、残留物的表面分析
  • 测量表面成分及化学状态信息
  • 薄膜成份的深度剖析
  • 硅氧氮化物厚度及成分分析
  • 薄膜氧化物厚度测量(SiO2, Al2O3 等)

 

XPS分析的相关领域

  • 航空航天
  • 汽车
  • 生物医学
  • 半导体
  • 数据存储
  • 国防
  • 显示器
  • 电子
  • 工业产品
  • 照明
  • 制药
  • 光电子
  • 聚合物
  • 半导体
  • 太阳能光伏发电
  • 电信

 

XPS分析的优势

  • 表面元素的化学状态识别
  • HHe外,可检测其他所有元素
  • 定量分析
  • 适用于多种材料,包括绝缘样品(纸,塑料、玻璃等)
  • 可用于深度分析
  • 氧化物厚度测量

 

XPS分析的局限性

  • 检测限通常在~ 0.01 %
  • 束斑较大,约为~10 µm
  • 有限的具体有机物信息
  • 需要超高真空(UHV)环境
 

版权所有:广州华优检测技术服务有限公司.  粤ICP备12010523号